ESPECTROSCOPÍA FOTOELECTRÓNICA DE RAYOS X
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FUNDAMENTOS DE LA TÉCNICA

La técnica de espectroscopía fotoelectrónica de rayos-X consiste básicamente en la excitación mediante un haz de rayos-X de los niveles más internos de los átomos, provocando la emisión de fotoelectrones que nos proporcionan información sobre la energía de cada nivel y, por tanto, sobre la naturaleza de cada átomo emisor.

Puesto que la energía del haz es hn, si el fotoelectrón sale con una energía cinética EK, la diferencia entre ambas nos da la energía de ligadura (EL) del átomo en particular, característica de cada elemento. Todo se resume a medir la velocidad de los electrones emitidos mediante el espectrómetro:

EL = hn - EK
Para ello es necesario trabajar en condiciones de Ultra Alto Vacío UHV (ultra high vacuum). Esto se consigue mediante el uso de bombas turbo-moleculares y bombas iónicas apoyadas con vacíos previos obtenidos por bombas rotatorias de aceite.
 

APLICACIONES

La técnica XPS se usa en investigación, desarrollo de nuevos materiales y en controles de calidad en fabricación. Esta técnica es capaz de obtener la composición química de varias superficies materiales hasta 1-2 nm de profundidad. Es posible saber la composición superficial de un material e incluso el estado de oxidación y si contiene un determinado elemento. Se pueden detectar todos los elementos, exceptuando el hidrógeno. La sensibilidad depende de cada elemento en particular. El objetivo principal de esta técnica consiste en dar la composición porcentual de una determinada capa así como el estado de oxidación de los elementos que la forman.

Las aplicaciones de la técnica se pueden resumir en los siguientes campos:

  • Polímeros y adhesivos
  • Catálisis heterogénea
  • Metalurgia
  • Microelectrónica
  • Fenómenos de corrosión
  • Caracterización de superficies de sólidos en general


REQUISITOS Y LIMITACIONES

Los cuidados que se han de tomar a la hora del manejo del equipo son  sobre todo relacionados con las condiciones de UHV. Por tanto, se debe evitar que entre aire en el sistema, sobre todo en la cámara de análisis. Las muestras se deben encontrar secas y no han de desprender ningún tipo de gas o vapor que pudiera contaminar las paredes internas del equipo. Tampoco deben descomponerse durante el proceso de irradiación.

Dado que las condiciones de vacío son muy extremas, las muestras deben ser sólidas, sin aceites u otro tipo de materiales que descompongan o evaporen. En ese caso se deberá avisar al operario para que congele la muestra mediante nitrógeno líquido.

DESCRIPCIÓN DEL EQUIPO

Se trata de un equipo VG-Microtech Mutilab 3000 equipado con un analizador de electrones semiesférico con 9 channeltrons (con energía de paso de 2-200 eV) y una fuente de radiación de rayos X con ánodos de Mg y Al. Posee una cámara de pretratamiento a atmósfera y temperatura controladas.

En la cámara de transporte se pueden realizar tratamientos de decapado mediante un cañón de iones. En la cámara de análisis se encuentran un cañón de electrones para realizar espectroscopía Auger y otro cañón de electrones (de baja intensidad) "flood gun" para contrarrestar el efecto de carga en muestras no conductoras


EXPERIENCIA DEL EQUIPO


PERSONAL

Fernando Coloma Pascual

Tel: 96590 9
798
ENLACES DE INTERÉS

http://www.uksaf.org/tech/xps.html
http://www.xpsdata.com
http://www.lasurface.com
http://srdata.nist.gov/xps